真空鍍膜設備中用于殘余氣體分析的質譜儀可以用H、He、Ar等作為示蹤氣體進行泄漏檢測，但這些泄漏檢測儀的泄漏檢測靈敏度不同。自20世紀40年代以來，質譜儀在泄漏檢測中的應用進一步促進了泄漏檢測技術的發展。對氦檢設備的評價需要充分了解其主要性能指標。靈敏度是氦檢設備的主要參數。由于各國對氦檢設備靈敏度的定義不一致，在中國，氦檢設備的靈敏度基本上用較小可檢漏率來表示。

　　氦檢設備的較小可檢漏率(靈敏度)，指的是在檢漏裝置在處于一個較佳的工作條件下(示漏氣體采用的是一個大氣壓的純氦)，做“動態檢漏”時能檢出的較小漏孔的漏率。

　　1、工作條件。

　　指被檢鍍膜設備部件的材料出氣很少，且沒有較大漏孔;檢漏裝置本身的參數調整到較佳工作狀態等。

　　2、動態檢漏。

　　指不用累積法進行檢漏，檢漏裝置本身的真空抽氣系統仍正常進行抽真空，裝置的反應時長小于3s，3s當中的抽氣系統的時間常數是小于一秒的;

　　3、氦檢設備較小可檢。

　　指其信號是本底噪聲的兩倍;

　　4、漏孔的漏率。

　　指干燥空氣(100kPa的壓力)經漏孔通向真空端(遠遠低于100kPa的壓力)的漏率。

　　氦檢設備對氦分壓變化有反應的氦檢設備，為表征這種反應特性，較好給出檢漏裝置的較小可檢濃度，即濃度靈敏度。所謂檢漏裝置的“濃度靈敏度”，指處在工作壓力下(工作壓力一般為10Pa~10Pa)的質譜室，使用該裝置可檢示的大氣中的較小氦濃度的變化。而鍍膜設備的氦檢設備中的“較小可檢濃度”則為信號與裝置噪聲比為一或二時，當中氦的濃度。